Il produttore americano di memorie Micron ha stabilimenti non solo negli Stati Uniti, ma anche in Giappone, Singapore, Cina e Taiwan. Molti di loro sono entrati a far parte di Micron nell'ambito di acquisizioni. Durante il Computex 2022, il produttore americano ha annunciato che modernizzerà la sua produzione a Taichung, in Taiwan, e inizierà la transizione verso un processo di produzione più avanzato per i chip di memoria DRAM utilizzando la litografia a raggi ultravioletti estremi (EUV) entro la fine di quest'anno.
Micron ha smesso da tempo di designare tecnologie di produzione di semiconduttori in nanometri, ma vengono utilizzate designazioni diverse per la classe di microcircuiti da 10 nm, come 1x, 1z e altre. Ora i chip DRAM di Micron vengono creati sulla pipeline DUV (Deep Ultra Violet) utilizzando la tecnologia 1α (alpha). Ciò consente di creare semiconduttori con una dimensione leggermente superiore a 10 nm.
A partire dal prossimo anno, la società prevede di passare al nodo 1β (beta). Per fare ciò, il produttore utilizzerà non l'ultravioletto profondo (DUV), ma l'estremo, cioè EUV. Questo è diventato noto dalla tabella di marcia a lungo termine pubblicata dal produttore. Segna il passaggio al nodo 1y (gamma). Questo può essere considerato l'inizio dei preparativi per il passaggio a un nuovo livello di produzione di DRAM al nodo 1β. Il passaggio dal nodo 1α a 1β consentirà a Micron di migliorare le prestazioni del chip del 40%.
È molto probabile che in futuro Micron comincerà a riorganizzare le sue altre fabbriche per utilizzare il nuovo processo di litografia.
2022-05-31 11:21:52
Autore: Vitalii Babkin