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Micron, EUV 리소그래피로의 전환 시작

Micron, EUV 리소그래피로의 전환 시작

미국의 메모리 제조사인 마이크론은 미국뿐 아니라 일본, 싱가포르, 중국, 대만에도 공장을 두고 있다. 그들 중 다수는 인수의 일환으로 Micron의 일부가 되었습니다. Computex 2022에서 이 미국 제조업체는 대만의 Taichung에서 생산을 현대화하고 올해 말 이전에 극자외선(EUV) 리소그래피를 사용하는 DRAM 메모리 칩의 고급 생산 공정으로의 전환을 시작할 것이라고 발표했습니다.

Micron은 오랫동안 반도체 생산 기술을 나노미터 단위로 지정하는 것을 중단했습니다. 대신 1x, 1z 등과 같은 10nm 미세 회로 등급에 대해 다른 명칭이 사용됩니다. 이제 마이크론의 DRAM 칩은 1α(알파) 기술을 사용하여 DUV(Deep Ultra Violet) 파이프라인에서 생성되고 있습니다. 이를 통해 10nm보다 약간 큰 크기의 반도체를 만들 수 있습니다.

회사는 내년부터 노드 1β(베타)로 전환할 계획이다. 이를 위해 제조사는 DUV(심자외선)가 아닌 극자외선, 즉 EUV를 사용한다. 이는 제조사가 발표한 장기 로드맵을 통해 알려졌습니다. 노드 1y(감마)로의 전환을 표시합니다. 노드 1β에서 새로운 차원의 DRAM 생산으로 전환하기 위한 준비의 시작이라고 볼 수 있습니다. 노드 1α에서 1β로의 전환을 통해 Micron은 칩 성능을 40% 향상시킬 수 있습니다.

미래에 Micron은 새로운 리소그래피 공정을 사용하기 위해 다른 공장을 개조하기 시작할 것입니다.


2022-05-31 11:21:52

작가: Vitalii Babkin

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