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TSMC, N4P 기술 공개 - 레벨 3 5nm 공정 개선

TSMC, N4P 기술 공개 - 레벨 3 5nm 공정 개선

TSMC는 성능 향상을 위해 5nm 공정을 개선하는 다음 단계인 새로운 N4P 칩 기술을 공개했습니다. 대만 회사에 따르면 N4P는 고객이 사용할 수 있는 고급 기술 포트폴리오를 확장하고 최종 제품의 용량, 생산성, 면적 및 비용 목표에 따라 가장 적합한 솔루션을 선택할 수 있도록 합니다.

TSMC는 N4 기술("4nm" 기술 공정 - 개선된 5nm 기술)과 비교하여 새로운 N4P 공정 기술이 성능 지표에서 6% 개선을 제공하고 N5(원래 5nm TSMC 프로세스 기술)을 통해 회사는 다음과 같은 이점을 강조합니다.

생산성 지표 11% 및 에너지 효율성 22% 증가;

트랜지스터 밀도 6% 증가;

마스크 수를 줄여 생산 주기의 복잡성과 시간을 줄입니다.

“N4P 프로세스를 통해 TSMC는 성능, 에너지 효율성 및 비용 수준의 서로 다른 조합을 제공하는 첨단 반도체 기술 포트폴리오를 강화하고 있습니다. N4P 프로세스는 고성능 및 모바일 솔루션을 포함한 첨단 기술 플랫폼의 기반으로 사용하도록 최적화되어 있습니다. N5, N4 및 N3 워크플로는 TSMC 고객에게 자신의 요구 사항을 가장 잘 반영하는 올바른 플랫폼을 선택할 수 있는 유연성을 제공합니다.”라고 TSMC는 지적합니다.

TSMC는 2022년 하반기 초까지 N4P 기술을 기반으로 한 첫 번째 제품의 생산을 시작할 계획입니다.


2021-10-27 15:47:35

작가: Vitalii Babkin

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